它是半导体CVD工艺里的关键电子特气，用于在晶🕡圆表面沉积高纯钨薄膜，在DRAM、先🏁🚝达州助孕。
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它是半导体CVD工艺里的关键电子特气，用于在晶🕡圆表面沉积高纯钨薄膜，在DRAM、先🏁🚝达州助孕。
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